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Journées de la Société Française des SemiConducteurs et Oxydes Poreux

09/05/2019

Le 19 et 20 juin se dérouleront les 5èmes journées de la Société Française des SemiConducteurs et Oxydes Poreux (SCOPe) à l’Institut de Chimie et des Matériaux Paris-Est (ICMPE).

Des acteurs français et francophones, tous impliqués dans la recherche sur le silicium et les semi-conducteurs/oxydes poreux et leurs applications, se réuniront à l’occasion de ces deux journées. Elles permettront aussi un partage des dernières avancées et la promotion de la nouvelle génération dans ce domaine.

Conférenciers invités :

  • Ciro Chiappini - King’s College London - Nanomaterials and Biointerfaces Lab (UK) « High aspect ratio porous silicon nanostructures for drug delivery and biosensing »
  • Anne-Chantal Gouget - Laboratoire de Physique de la Matière Condensée (France) « Functionalization of oxide-free silicon surfaces »
  • Yannick Coffinier - Institut d’Electronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (France) « Fabrication of silicon nanostructures via MACE method and their applications »

Thématiques abordées :

  • Elaboration, techniques de fabrication, structures
  • Luminescence et photonique
  • Microélectronique
  • Systèmes et intégration
  • Coatings fonctionnels
  • Capteurs
  • Photovoltaïque
  • Matériaux d’électrodes, énergie, conversion, stockage
  • Imagerie médicale, thérapie

Inscriptions avant le 24 mai.

Pour plus de détails rendez-vous sur le site internet.